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●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺(PI)薄膜、金属等材料。
主要应用于LCD、连接器、键合前等大规模生产领域。特点:所有元器件及核心部件采用进口，保证了整机的
主要应用于LCD、连接器、键合前等大规模生产领域。特点:所有元器件及核心部件采用进口，保证了整机的
主要应用于LCD、连接器、键合前等大规模生产领域。特点:所有元器件及核心部件采用进口，保证了整机的稳定性和使用寿命。真空泵采用进口旋片泵，是适用于等离子工艺环境使用的可长时间工作的体系，在抗氧化、耐腐蚀等诸多方面积累了丰富的经验，使泵的寿命大大提高，并有效降低了泵的维护成本，泵的各项保护措施完善，提高了
主要应用于LCD、连接器、键合前等大规模生产领域。特点:所有元器件及核心部件采用进口，保证了整机的稳定性和使用寿命。真空泵采用进口旋片泵，是适用于等离子工艺环境使用的可长时间工作的体系，在抗氧化、
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