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平板型等离子增强化学气相淀积系统

产品型号：平板型等离子增强化学气相淀积系统（PECVD）
供应商：北京七星华创电子有限公司
产品品牌：暂无
关键词：
行业类型：电力
设别类型：电力自动化综合自动化系统

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产品代码产品描述设备用于2”～6”硅片淀积SiO2、Si3N4等工艺。产品产地北京产品商标产品名称平板型等离子增强化学气相淀积系统（PECVD） FOB单价最低订货量 1台 FOB地点北京交货期限 3～6个月产品详细描述 1.设备除装卸片方式为手动外，控制微机对工艺过程及全部参数自动控制。 2.具有良好的工艺性能，使用范围广泛。产品选型详见订货须知。　主要指标结构形式：平板型装片能力：φ50mm 19片反应室极限真空度：≤0.67Pa 工艺压强范围：13.3～266Pa 淀积温度：200～450℃ 温度精度：±2℃（φ200mm内） RF电源：13.56MHz 500～600W 生长速度：氮化硅 50～150埃；氧化硅 100～300埃膜厚均匀性：片内 ≤±3％片间 ≤±3％批间 ≤±3％

北京七星华创电子有限公司

联系人：	纪玲燕
企业认证：已认证
主营产品：	电子设备、电子元器件、工业炉、真空设备、氢气炉、偏转线圈、薄膜电路、安防、汽车电子、隧道炉、电阻器、流量计、电声产品、通讯产品、等展开全部
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