联系人： 叶女士 (来电时请说是从北极星看到我的)
手机：13918837267
电话： 021-50463511
地址： 上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室
KRI 射频离子源 RFICP 40
上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.
射频离子源 RFICP 40 特性:
1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.
2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单; 基座可调节, 优化蚀刻率和均匀性.
3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束
4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用
6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性
KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:
|
型号 |
RFICP 40 |
|
Discharge 阳极 |
RF 射频 |
|
离子束流 |
>100 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
4 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
3-10 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
长度 |
12.7 cm |
|
直径 |
13.5 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域：
预清洗
表面改性
辅助镀膜 (光学镀膜 ) IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生
| 联系人： | 叶女士 |
企业认证：
 已认证
|
|
| 主营产品： |
德国 Pfeiffer 真空泵，氦检漏仪，分子泵，质谱仪，真空规管，真空阀门及美国Brooks 旗下CTI Cropump 冷凝泵/低温泵， Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源，PLD镀膜机。 |
| 进入企业网站 | |
商务通客服咨询热线：0335-3030515/17718308761（李先生）
京ICP证080169号京ICP备09003304号-2
京公网安备11010502034458号电子公告服务专项备案
网络文化经营许可证 [2019] 5229-579号广播电视节目制作经营许可证 (京) 字第13229号出版物经营许可证新出发京批字第直200384号人力资源服务许可证1101052014340号
Copyright © 2022 Bjx.com.cn All Rights Reserved. 北京火山动力网络技术有限公司 版权所有
