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价格货期电议上海伯东代理美国原装进口KRI射频离子源RFICP220高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP220配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射靶材,实现完美的薄膜特性.同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中,最佳的

价格货期电议上海伯东代理美国原装进口KRI霍尔离子源eH400低成本设计提供高离子电流,霍尔离子源eH400尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统,可以控制较低的离子能量,通常应用于离子辅助镀膜,预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸:直径=3.7高=3放电电压/电流:50-300eV/5a操作气体:

价格货期电议上海伯东代理美国原装进口KRI霍尔离子源eH1000高效气体利用,低成本设计提供高离子电流,特别适合中型真空系统.通常应用于离子辅助镀膜,预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸:直径=5.7高=5.5放电电压/电流:50-300V/10A操作气体:Ar,Xe,Kr,O2,N2,有机前体KRI霍尔离

价格货期电议上海伯东代理美国原装进口KRI射频离子源RFICP140是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积,离子辅助沉积和离子束刻蚀.在离子束溅射工艺中，射频离子源RFICP140配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射靶材,实现完美的薄膜特性.同样的在离子束辅助沉积和离子

价格货期电议上海伯东代理美国原装进口KRI考夫曼离子源KDC75:紧凑栅极离子源,离子束直径14cm,可安装在8CF法兰.适用于中小型腔内,考夫曼离子源KDC75包含2个阴极灯丝,其中一个作为备用,KDC75提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜.标准配置下离子能量范围100至1200ev,离子电流可

价格货期电议上海伯东代理美国原装进口KRI考夫曼离子源KDC40:小型低成本直流栅极离子源.KDC40是3cm考夫曼型离子源升级款.具有更大的栅极,更坚固,可以配置自对准第三层栅极.离子源KDC40适用于所有的离子工艺,例如预清洗,表面改性,辅助镀膜,溅射镀膜,离子蚀刻和沉积.离子源KDC40

露点仪分为在线式露点仪，便携式露点仪，高温露点仪，防腐露点仪，锂电池露点仪。DP550手持式露点仪上海托力专业供应●传感器采用防腐蚀处理●可记录数据100000点●测量露点及温湿度●显示PPMV测量值●适用于锂电，SF6，压缩空气行业为您充分节省校准费用●露点测量范围-60到+60C●

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高压滤波电抗器适用于6-35KV电力系统中，是无功补偿及谐波治理的主要配套设备，它与并联电容器组成LC回路，抑制电网电压波形畸变，抑制流过电容器组的谐波分量和限制电容器组的合闸涌流。高压谐波电抗器已经成为无功补偿装置中必不可少的设备。公司主要从事有源滤波、无功补偿、谐波治理、电能质

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