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空气分子污染(AMC)监测
产品介绍:

光刻工艺洁净室内痕量级NH3,HCL,HF等气体的超高灵敏度、实时测量 实践证明深紫外光刻工艺深受多种类微量污染物的影响,对很多微量污染物极为敏感,比如氨气或者酸性气体都会给半导体生产带来极大的危害,尽管随着深紫外耐腐蚀材料技术的发展,已经减少了长时间持续实时监测,而实际上空气分子污染(

供 应 商: 北京杜克泰克科技有限公司 [北京]