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氧化亚硅真空烧结炉详细介绍 目前,氧化亚硅(SiOx)是重要的电子和光学材料和锂离子电池负极添加剂。传统上生产氧化亚硅的方法是将单质硅和二氧化硅同摩尔比例混合,然后研磨成微米量级的粉末(颗粒越小混合越均匀,相互间接越紧密越有利于反应),再在负压环境下加热到1250℃以上的温度进行歧化反应, |
供 应 商: | 咸阳鸿峰窑炉设备有限公司 [陕西] |
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石墨化炉 加热要求:加热石墨到2800℃ 1000C-2000C, 50C/ Min 2000C-2500C, 20C/ Min 2000C-2850C, 5C/ Min 用途: 用于磷片石墨、碳材料结构件(制品)、C/C 复合材料制品、碳素材料炭素提纯、和其它石墨材料的高温石墨化。其它可在碳环境下烧结和熔炼的材料。 特点: 使用温度高,石墨化 |
供 应 商: | 青岛鑫鸿电气科技有限公司 [山东] |
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