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IC/5膜层控制仪多用途的IC/5理想地适用于控制多源、多坩埚、多材料或多过程系统的膜层沉积速率和膜厚。IC/5可满足即使最复杂、最高要求与特殊应用的需要。它擅长于过程控制、逻辑功能、程序和膜层储存
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