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※用于晶片的显影工艺,※控制模式:手动控制模式自动控制模式,※清洗能力:2-8英寸晶片。※需
※用于晶片的显影工艺,※控制模式:手动控制模式自动控制模式,※清洗能力:2-8英寸晶片。※需甲方提供花篮。※设备形式:室内放置型。※洁净度:千级洁净室。※工艺
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