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光刻工艺洁净室内痕量级NH3,HCL,HF等气体的超高灵敏度、实时测量 实践证明深紫外光刻工艺深受多种类微量污染物的影响,对很多微量污染物极为敏感,比如氨气或者酸性气体都会给半导体生产带来极大的危害,尽管随着深紫外耐腐蚀材料技术的发展,已经减少了长时间持续实时监测,而实际上空气分子污染( |
供 应 商: | 北京杜克泰克科技有限公司 [北京] |
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概述: 空气分子污染物 (AMC) 对于高科技生产过程是关键性因素,特别是微电子行业,有机污染物是生产过程中的消极因素,会导致高科技公司因产品质量问题而产生的成本增加。无空气分子污染物生产是理想的生产目标,通过污染物源头控制、传播控制,实时监控污染物浓度并结合多级过滤器以及新风系统来 |
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