高效 Xstream^® 远程等离子源平台产生来自稳定的原料气体的中性活性种，用于表面改性、腔室清洗、薄膜蚀刻以及等离子辅助沉积。

　　安装在工艺腔室外的 Xstream 平台整合了远程等离子源、6 kW 或8 kW 的高效电源以及获得专利的固态主动式匹配网络。该网络在一个腔室清洗源上拥有最宽的商业化阻抗运行范围。Xstream 远程等离子源让工艺工程师拥有无与伦比的反应气体工艺灵活性，从而提高了系统吞吐量，优化了昂贵资源的使用。

优点

功能

• 优化昂贵资源的使用

• 提供最宽的商业化阻抗运行范围

• 可在各种化学反应下无缝运行，包括现有的 PFC/O2 就地腔室清洗方法

• 提高工艺性能、灵活性和吞吐量

• 能够对就地和远程 VCD 腔室清洗进行简化改进

• 利用之前获得专利的 AE 主动式匹配网络技术

• 固态板上主动式匹配网络

• 完全整合式高效400 kHz 电源

• 可选的虚拟前面板 (VFP) 直观、即时、基于软件的用户界面

• 耗水量小

• 阳极硬化、细微粒、防腐金属源腔室

• 可测量对等离子的实际供电之高级监控电路

• 用于系统整合和监控的读回信号