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半导体用钴溅射靶材高纯钴颗粒Co9999半导体用钴溅射靶材一般纯度要求在4N99.99以上，制造方法基本是高纯钴粉先烧结成块，再通过高真空电子束熔炼炉获得高纯钴锭，然后对钴锭反复进行塑性变形和退火，从而获得具有均匀晶粒和一定内部织构的钴靶坯，靶坯通过与背板进行焊接并经机械加工，最终成品。

合肥半导体芯片清洗用水设备/合肥超纯水设备芯片清洗用水概述芯片清洗用水、半导体封装用水设备、引线框架、集成电路、lcd液晶显示器用纯水、导电玻璃超纯水设备、显像管、线路板、光驼信、电脑元件、电容元器件等工业用纯水。太阳能硅片纯水处理，pcb超纯水，半导体led超纯水处理设备，电视机纯

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光纤激光划片机的产品特点：具备氪灯泵浦YAG激光划片机所有性能优点，此外光束质量更好（标准基模）、切

一、该系列机器的主要特点：1、主要用于烘烤LED灯；2、输送采用不锈钢链板，保证输送面的水平，且减少搬运造成的不良；3、用红外烤隧道炉温度在110-150℃左右，只需要10-15分钟；4、实现随线作业，节省人力、省时、省电；二、其他典型机器规格:型号/规格QRHCL6000*W1220*H1110MMQRHCL8000*W1570*H1110MM*实际长度、宽度可根