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| 产品介绍： |
●用于野外污物回收，可回收污水、污泥、稠状物及半固态颗粒等流体物，广泛应用于石油、化工、水利工程、冶金、矿山等行业。 1、配置真空系统： 可选配进口真空获得设备，配置专用消音器或消音罩；真空测量，配置防震不锈钢真空仪表（-0.1-0MPa）。 2、缓冲罐设置： 碳钢焊接成形，并真空 |
| 供 应 商： | 成都汉普升科技有限公司 [四川] |
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| 产品介绍： |
●用于半导体器件、光电转换器件、集成电路、超高马赫器件等产品气氛保护激光作业，设备可视化程度高、操作方便、性能稳定，能防止材料在空气中氧化（如：钛基、钴基、镍基等材料），增加焊料的流动性，减少焊接气孔、夹渣等焊接缺陷，提高产品气密性、强度和高加速度(60g上)的抗冲击性能。 ● |
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| 产品介绍： |
●环境辐射剂量率测量专用设备；量率量程跨九个数量级（1nGy/h-1Gy/h），可准确、快速检测并评价从环境级至核事故级的辐射水平；具有高灵敏度、高稳定性、响应时间短、卓越的能量响应、角响应和剂量率量程，能忍受恶劣的气候条件；该产品质量可靠、技术成熟，寿命超过10年。 产品功能： ●用于 |
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| 产品介绍： |
●JZC型激光焊接环境仓由中国XXX研究所与公司联合研制，该设备由环境制备系统和环境仓两部分组成，具有可视化程度高、操作方便、性能稳定等特点，防止材料在空气中氧化，增加焊料流动性，减少焊接气孔、夹渣等焊接缺陷，特别适于进行镍基、钛基和钴基等特种材料的激光作业，也用于承受高马赫冲击的 |
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| 产品介绍： |
●CMC型全自动真空储存柜适用于食品、水产品、化工原料、贵重金属、金属粉末等固体、粉状、糊状、液体，电子产品（半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池片、电子元器件、高级金属制品、厌氧产品、易氧化产品等）的真空存贮，以防潮、防氧化变色。存贮产品可防止氧化、变色、褐变、霉变、 |
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| 产品介绍： |
●2300℃高真空高温炉，可定制2800℃高温炉，主要用于结构陶瓷、复合材料、碳化钨等材料真空高温烧结、退火、回火工艺，也可通入保护气氛进行烧结，可用于科学实验和中小批量生产。 ●本设备可选用石墨加热器、钨钼加热器，底部烧结，顶部出料； ●采用上提拉机构，并安装有自锁装置，确保操作 |
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| 产品介绍： |
●Research系列真空热处理炉满足客户特定需求，用于功能材料钎焊、膜层制备、真空退火、真空回火、真空热处理、晶界扩散、其他有机材料热处理制程，设备采用红外辐射加热，良好的人机界面和无油分子泵组，提供稳定、高效和优良耐久性能的低成本钎焊设备，广泛运用于新材料研发和中小批量钎焊工艺制 |
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| 产品介绍： |
●Research系列高真空中频感应炉，主要用于在高温、高真空环境或低压气氛保护下，对功能材料进行蒸发提纯、热处理、烧结、熔炼、生长等工艺制程，该设备采用公司专有高真空系统，能防止高温工艺制程对非金属功能材料表面的影响和侵蚀，采用中频感应电源加热匹配感应线圈，对石墨、铱金、钼、钨等难 |
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| 产品介绍： |
1. 用途： 本设备用于电子器件在真空中钎焊、退火、回火、除气工艺。 2. 主要技术资料： 2.1 工作温度：600-1400℃（工作温度） 2.2 温度均匀性：5℃ (600℃保温半小时测试) 2.3 有效工作区尺寸：定制 2.4 满载重量：定制 2.5 工作真空度：810-5Pa 3. 结构说明及工作原理： 本设备由炉 |
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| 产品介绍： |
1、基础与精度 天行测量的GVS系列全自动影像测量仪在EVS技术的基础上，进一步提高了光栅尺的精度，达到了0.0001mm。特别是GVS4030模型，其在测量网板和模切产品方面表现出色，精度可达3。 2、结构与材质 该系列采用大理石底座和航空铝材，确保了机器具有极高的稳定性和刚性。 3、导轨与马达 |
| 供 应 商： | 广东天行测量技术有限公司 [广东] |
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| 产品介绍： |
●Surpass系列 干法刻蚀机，特别适合于大口径、高均匀性和有特殊微纳结构的基片刻蚀，刻蚀尺寸可达2500mm，通过高密度等离子体及离子浓度修正系统，可达到基片有效刻蚀区域内均匀性较高的技术指标，满足大口径基片刻蚀的需求。 |
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| 产品介绍： |
●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。 |
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| 产品介绍： |
●该设备为公司根据客户工艺需求定制，与中国科学院某研究所国家重点实验室联合研制，先后获得奖励3项，联合申报国家专利2项，用于固体润滑、防腐和超硬表面改性等领域，服务于科研和国家重大项目需求，具有多功能、高稳定和国内首创的特点，欢迎各位联合研制。 ●设备主要由真空腔体、真空系统 |
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| 产品介绍： |
●设备主要由真空腔体、真空系统、工件盘系统、烘烤系统、溅射系统、过渡仓、磁力机械手、离子轰击系统、充气系统和在线测量系统组成，同时匹配空气压缩气体气源和水冷系统，可根据客户使用需求定制。 ●真空腔体：650X700双层水冷；（可根据实际需求定制） ●真空系统：分子泵+低温泵+罗茨泵+机 |
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| 产品介绍： |
●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备，可实现共溅射，直流、射频兼容，适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发，同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。建议选用公Research系列磁控溅射平台。 |
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| 产品介绍： |
●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备，可实现共溅射，直流、射频兼容，特别适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发，同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。是替代钟罩式磁控溅射的理想选择。 |
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| 产品介绍： |
1. 主体：全封闭框架结构，真空室为前开门方式，机柜和主机为一体式机构。采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料（SUS304），箱体尺寸为不小于350X400mm。设置DN100观察窗口，位于真空腔体门正前方，骨架默认白色（或铝合金本色），门板为白色，四只脚轮，可固定，可移动。室体、真空机组、磁控靶等有断水报 |
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| 产品介绍： |
●主要功能：多靶复合磁控溅射镀膜机，可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要，具有极高的实用性和通用性（三靶、垂直与共溅射合一、在线清洗基片等），能够提供高水平功能薄膜研制，特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬薄膜、固体润滑薄膜、 |
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| 产品介绍： |
●本装置使用电阻蒸发、电子束蒸发和离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀进行复合，用于制备特种薄膜，薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒物污染等特点，是半导体制程中关键工序的核心装备，其技术长期被美国、日本等国技术巨头所垄断，属于国内卡脖子装备，也是制约国内半导体领域自主可控的 |
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| 产品介绍： |
●本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上，在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际一流产品技术精髓，开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜: 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜、带通膜和截止膜等 |
| 供 应 商： | 成都汉普升科技有限公司 [四川] |
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