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无氧化烘箱Cure Ovens 氮气环境 高温半导体充氮烤箱 厌氧烘烤
无氧化烘箱|イナートオーブン|Inert Gas Ovens 适用范围: 适用于半导体、光电元件、能原材料、通讯产品、机电产品等作无氧化干燥、固化、焊接、退火等高温处理。 封装测试；所有的Lead PKG、BGA、MCM；光刻工艺有机聚合物膜预固化、坚膜；银浆固化、模后固化、电镀退火；基板除潮、晶圆干燥退火等。
【上海】 恒黔科技上海有限公司
一级代理特瑞仕Torex一级代理分销经销半导体小型低功耗低噪声IC芯片
代理特瑞仕Torex一级代理分销经销半导体小型低功耗低噪声IC芯片 C9141A30CMR-G XC9141A30CMR XC9111C331MR XC9104D093MR-G XC9103D093MR-G XC9103D093MR XC9103D091MR-G XC6802A42XMR-G XC6701B182ER-G XC6504A301MR-G XC6504A2819R-G XC6420AB32MR-G XC6420AB28MR-G XC6420AB15MR-G XC6415BB06MR-G X
【广东】 深圳市光与电子有限公司
常熟半导体制造厂EDI超纯水设备
①水质稳定 ②容易实现全自动控制 ③不会因再生而停机 ④不需化学再生 ⑤运行费用低 ⑥厂房面积小 ⑦无污水排放 EDI工作过程 一般自然水源中存在钠、钙、镁、氯化物、盐、碳酸氢盐等溶解物。这些化合物由带负电荷的阴离子和带正电荷的阳离子组成。通过反渗透
【江苏】 苏州伟志水处理设备
耐强酸碱PFA清洗瓶进口聚四氟乙烯材质尖嘴洗瓶适用半导体新材料
PFA洗瓶，也叫可溶性聚四氟乙烯洗瓶，特氟龙洗瓶。主要用于ICP-MS、ICP-OES等痕量分析以及同位素分析等实验室。地质、电子化学品、疾控中心、制药厂、环境检测中心等一些机构少量移液可用。 规格参考：60ml、100ml、250ml、300ml、500ml、1000ml等。 产品特点： 1、外观透明可视，便于在使用人员观
【不限】 南京瑞尼克科技开发有限公司
进口聚四氟乙烯烧杯透明耐酸碱PFA坩埚半导体多晶硅实验室用
PFA烧杯规格参考：10ml、30ml、50ml、100ml、250ml、500ml、1000ml、2000ml。 常在实验过程中可作为储酸容器或涉及强酸强碱类实验的反应容器，用于盛放样品、试剂，可搭配电热板加热、蒸煮、赶酸用。 PFA烧杯均有凸起刻度，直筒设计，带翻边，便于夹持和移动，边沿有嘴，便于倾倒液体；1L、2L大规格
【不限】 南京瑞尼克科技开发有限公司
车规级功率器件热循环负载试验台
BW-TRL2000 车规级功率器件热循环负载试验台 产品简介： BW-TRL2000车规级功率器件热循环负载试验台是一种二极管热循环负载试验系统,其特征是在于其包括：一反向漏电流采样电路,用于测试被测二极管的反向漏电流；一加热控制电路,用于提供被测二极管的加热恒定电流；一瞬态热阻测试模块,用于提供被
【陕西】 陕西博微电通科技有限责任公司
电子半导体用超纯水设备
电子半导体用超纯水设备 典型工艺流程： 1 预处理系统-反渗透系统-粗混床-精混床-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(18M.CM)(传统工艺) 2 预处理-反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(18M.CM)(新工艺) 3 预处理-一级反渗透-二级反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精
【不限】 上海汾霖环保科技有限公司
半导体制造设备通风性能测量系统六氟化硫
半导体制造设备通风性能测量系统六氟化硫 概述 随着能量效率的提高，以及排气通风设施的物理限制变得更加明显，半导体设备的排气通风的优化变得越来越重要。设备的排气通风设计不合理，可能会造成操作人员的伤亡，引起设备乃至整个工厂的烧毁。 半导体行业需要测量机台通风效率，满足SEMI S6 Ventil
【北京】 北京杜克泰克科技有限公司
半导体材料EDI超纯水技术 莱特莱德超纯水设备厂家
产品信息和仅供参考，详细可留言咨询。 关于超纯水的规定，我们在 2016 年10月份发布，并在2017年5月实施了名为《仪器分析用高纯水规格及试验方法》的标准。标准里规定了超纯水的电阻率一般大于18Mcm，总有机碳TOC小于50ppb。这说明超纯水中的离子含量非常低，除了H+和OH-外，其它离子几乎可以忽
【不限】 莱特莱德（上海）技术有限公司
成都真空设备厂家 JK高真空系统 真空镀膜机 工业炉 半导体专用设备 选配低温冷阱 可定制
●公司研发的JK型高真空系统广泛运用于真空镀膜、工业炉和半导体专用设备，该设备具有价格低廉、性能稳定和真空度高的特点，是目前较低投入获得高真空的标准设备，由于主泵没有运动部件，因此该设备故障率极低，特别适合对稳定性有特殊需求的行业，但是也存在能耗较高的特点，根据客户需求，可选配
【四川】 成都汉普升科技有限公司
成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀机 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制
●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
【四川】 成都汉普升科技有限公司
成都真空设备厂家 半导体制程PVD沉积台 电阻蒸发 电子束蒸发 离子源辅助清洗 辅助沉积 可定制
●本装置使用电阻蒸发、电子束蒸发和离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀进行复合，用于制备特种薄膜，薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒物污染等特点，是半导体制程中关键工序的核心装备，其技术长期被美国、日本等国技术巨头所垄断，属于国内卡脖子装备，也是制约国内半导体领域自主可控的
【四川】 成都汉普升科技有限公司
半导体密封
半导体行业晶圆制造（Wafer Fabrication）、晶圆测试（Wafer Probe/Sorting)、蚀刻、CMP、CVD、芯片封装（Assemble）、测试（Test）及后期成品（Finish Goods）等相关设备工艺需要使用超高纯，低污染，耐腐蚀，耐等离子（NF3)特性及压缩变形冷流功能优异的橡塑元件。 有谛工业科技（上海）有
【上海】 有谛工业科技（上海）有限公司
南京集成电路超纯水厂家 半导体EDI超纯水系统
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超纯水系统应用项目 半导体EDI超纯水系统厂家
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超纯水生产厂家 莱特莱德半导体EDI超纯水系统
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莱特莱德超纯水设备 半导体超纯水设备案例
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超纯水设备厂家 莱特莱德半导体EDI超纯水设备
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宁波EDI超纯水技术 莱特莱德半导体超纯水设备
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北京EDI超纯水设备工艺 莱特莱德半导体超纯水设备
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