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射频离子源相关产品
  • 上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40

    产品介绍:

    KRI射频离子源RFICP40上海伯东代理美国原装进口KRI射频离子源RFICP40:目前KRI射频离子源RFICP系列尺寸最小,低成本高效离子源.适用于集成在小型的真空腔体内.离子源RFICP40设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用.离子源RFICP40无需电离灯丝设计,适用于通气气体是活性气体时的

  • 上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000

    产品介绍:

    KRI霍尔离子源eH3000上海伯东代理美国原装进口KRI霍尔离子源eH3000适合大型真空系统,与友厂大功率离子源对比,eH3000是目前市场上高效,提供更高离子束流的离子源.尺寸:直径=9.7高=6放电电压/电流:50-300V/20A操作气体:Ar,Xe,Kr,O2,N2,有机前体KRI霍尔离子源eH

  • 上海伯东 射频离子源 RFICP 380

    产品介绍:

    价格货期电议上海伯东美国KRi大口径射频离子源RFICP380,3层栅极设计,栅极口径38cm,提供离子动能100-1200eV宽束离子束,最大离子束流1000mA,满足300mm(12英寸)晶圆应用.KRI射频离子源RFICP380特性:1.放电腔DischargeChamber,无需电离灯丝,通过射频技术提供高密度离子,

  • 上海伯东 KRi 射频离子源 RFICP 220

    产品介绍:

    价格货期电议上海伯东代理美国原装进口KRI射频离子源RFICP220高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP220配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射靶材,实现完美的薄膜特性.同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中,最佳的

  • 上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140

    产品介绍:

    价格货期电议上海伯东代理美国原装进口KRI射频离子源RFICP140是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积,离子辅助沉积和离子束刻蚀.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP140配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射靶材,实现完美的薄膜特性.同样的在离子束辅助沉积和离子

  • 上海伯东代理美国原装进口 KRI 线性离子源

    产品介绍:

    KRI线性霍尔离子源eHLinear上海伯东代理美国原装进口KRI线性离子源使用eH400做为模组,能应用于宽范围的衬底,离子源长度高达1米,通过严格调整模组间的距离可以实现更佳的均匀性和离子流.由于模组是平行放置,大大简化了气体,功率和电子三者的分布.KRI线性离子源使用标准的端部