1.用途：本设备用于电子器件在真空中钎焊、退火、回火、除气工艺。2.主要技术资料：2.1工作温度：600-1400℃（工作温度）2.2温度均匀性：5℃(600℃保温半小时测试)2.3有效工作区尺寸：定制2.4满载重量：定制2.5工作真空度：810-5Pa3.结构说明及工作原理：本设备由炉

1、基础与精度天行测量的GVS系列全自动影像测量仪在EVS技术的基础上，进一步提高了光栅尺的精度，达到了0.0001mm。特别是GVS4030模型，其在测量网板和模切产品方面表现出色，精度可达3。2、结构与材质该系列采用大理石底座和航空铝材，确保了机器具有极高的稳定性和刚性。3、导轨与马达

●Surpass系列干法刻蚀机，特别适合于大口径、高均匀性和有特殊微纳结构的基片刻蚀，刻蚀尺寸可达2500mm，通过高密度等离子体及离子浓度修正系统，可达到基片有效刻蚀区域内均匀性较高的技术指标，满足大口径基片刻蚀的需求。

●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺(PI)薄膜、金属等材料。

●该设备为公司根据客户工艺需求定制，与中国科学院某研究所国家重点实验室联合研制，先后获得奖励3项，联合申报国家专利2项，用于固体润滑、防腐和超硬表面改性等领域，服务于科研和国家重大项目需求，具有多功能、高稳定和国内首创的特点，欢迎各位联合研制。●设备主要由真空腔体、真空系统

●设备主要由真空腔体、真空系统、工件盘系统、烘烤系统、溅射系统、过渡仓、磁力机械手、离子轰击系统、充气系统和在线测量系统组成，同时匹配空气压缩气体气源和水冷系统，可根据客户使用需求定制。●真空腔体：650X700双层水冷；（可根据实际需求定制）●真空系统：分子泵+低温泵+罗茨泵+机

●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备，可实现共溅射，直流、射频兼容，适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发，同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。建议选用公Research系列磁控溅射平台。

●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备，可实现共溅射，直流、射频兼容，特别适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发，同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。是替代钟罩式磁控溅射的理想选择。

1.主体：全封闭框架结构，真空室为前开门方式，机柜和主机为一体式机构。采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料（SUS304），箱体尺寸为不小于350X400mm。设置DN100观察窗口，位于真空腔体门正前方，骨架默认白色（或铝合金本色），门板为白色，四只脚轮，可固定，可移动。室体、真空机组、磁控靶等有断水报

●主要功能：多靶复合磁控溅射镀膜机，可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要，具有极高的实用性和通用性（三靶、垂直与共溅射合一、在线清洗基片等），能够提供高水平功能薄膜研制，特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬薄膜、固体润滑薄膜、

●本装置使用电阻蒸发、电子束蒸发和离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀进行复合，用于制备特种薄膜，薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒物污染等特点，是半导体制程中关键工序的核心装备，其技术长期被美国、日本等国技术巨头所垄断，属于国内卡脖子装备，也是制约国内半导体领域自主可控的

●本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上，在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际一流产品技术精髓，开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜:电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜、带通膜和截止膜等

●近距红外蒸发真空镀膜机正式推向市场，探索薄膜太阳能电池，如CdTe、硫化物和钙钛矿结构太阳能电池的重要手段，也用于有机柔性薄膜制备，为公司专利产品一种近距红外热蒸发真空镀膜机，专利号：CN201920208976.6，接受桌面式和一体式定制。●真空腔体：根据客户需求定制。●真空漏率：1X10

●形式：箱式一体机，立式前开门，蒸发室和抽气室为整体焊接式，沉积腔采用SUS304真空氩弧焊成型不，一体机系统，可连接单排双工位手套箱，中间用DN150超高真空插板阀隔断。●真空系统：极限真空5X10-4Pa，主泵为复合分子泵，抽速600L/S,前级泵配置直联泵，主阀匹配。●真空测量：配数字复合真

●该设备可选配电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统，过流部件均采用SUS304制造，真空系统后置，标准配置分子泵系统，标配工业级人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列设备不提供全手动操作控制系统。

●该设备为电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统，同时兼容IBE等离子刻蚀和在线辅助镀膜，过流部件均采用SUS304制造，真空系统后置，标准配置分子泵系统，标配工业级人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列设备不提供

涤纶针刺毡除尘布袋除具有普通毡类滤布有的空隙度高、透气性好、集尘、使用寿命长等特点外，因除尘器布袋耐温级适中，瞬间可达150℃，耐酸、耐碱适中特点外而且具有非常好的性，故除尘器布袋是毡类滤材中使用量较大的一个品种。克重350g/m2～800/m2,厚度1mm～4mm，幅宽3.4以下我厂均可生产，并可分切至

●本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜，电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜和截止膜等各种膜系镀膜。为满足广大用户的不同需求，我公司可接受多种形式的真空镀膜机的定制要求，包括对真空室体尺寸、真空系统配置、工件夹具系

天行测量定制服务：为您量身打造测量解决方案在测量领域，每一个项目都有其独特性，每一个需求都值得得到精准的满足。这就是为什么天行测量为您提供专业的定制服务，确保您的每一个测量需求都能得到最合适的解决。1、深度咨询与需求分析我们首先深入了解您的项目需求和特点。通过与您的团队深入

产品名字：手持式土壤检测仪传感器自适应颜色：可定制型号：LG-HHC设备内核：MCU坐标定位：支持检测报警：四重报警工作电源：5V/12V内置锂电池：3.7V3000mAh储能救援：支持指示交互：三重电源采样控制：内置/外置联动输出：GPIO